全自动离子溅射仪产品参数：
1.腔体尺寸：石英玻璃，直径150mm*高度130mm
2.供电规格：AC220V，200w
3.适用靶材：贵金属AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常规金属Cu、W、Ag 、Cr 等
4.样品台可调高度：20~50mm
5.样品台尺寸：直径55mm
6.工作真空度：1~10Pa
7.气体路数：单路
8.气体流量：手动调节
9.控制：触屏控制
10.外形尺寸：260mm*410mm*343mm(宽*深*高)
11.重量：10KG
12.真空泵：VRD-8
全自动离子溅射仪产品简介：
1、人性化设计，仪器操作简单，一键镀膜。
2、仪器小巧，不占空间，适用于实验室、科研院所等。
3、镀膜均匀细密，适用于多种靶材。
4、样品台可以快速调节，方便取放样品。
5、仪器性能可靠，设有多重安全保护机制。
全自动离子溅射仪是一种功能强大的电子设备，经常用于表面分析和薄膜制备。它可以利用离子束轰击样品表面，然后通过检测生成的离子进行分析。该设备通常具有以下特点：
1.条件控制：全自动离子溅射仪可以精确地控制离子束的能量、角度、荷载和强度等条件。
2.多种离子源：它可以装配多种离子源，包括氧化物、碳化物和金属等。
3.检测器：该设备通常配备专业检测器，可以对样品进行自动分析、控制和处理。
4.系统集成：它可以与其他设备集成，如扫描电镜和光谱仪，以便进行更全面的表面分析。
全自动离子溅射仪的应用非常广泛，包括制备陶瓷、薄膜、半导体和生物医学材料等。此外，它还可以用于表面加工、污染控制和纳米加工等领域。
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